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化学镀镍性能特点

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化学镀镍性能特点

发布日期:2018-09-23 作者: 点击:



机理特点
⑴机理
化学镀镍是用还原剂把溶液中的镍离子还原沉积在具有催化活性的表面上。铝排镀锡可专门用于替代铜排,铝排。广泛应用于。自动化,冶金,高低压电器,建筑行业及冶金行业。该产品采用国外先进的双金属复合材料技术,质量稳定性能可靠是一种高科技的节能型产品。化学镀镍可以选用多种还原剂,目前工业上应用最普遍的是以次磷(P)酸(Acerbity)钠为还原剂的化学镀镍工艺( technology),其反应(reaction)机理,普遍被接受的是“原子氢理论”和“氢化物理论”。
1)原子氢理论
原子氢理论认为,溶液(róng yè)中的Ni2+靠还原剂次磷酸钠(NaH2P02)放出的原子态活性氢还原为金属镍(Ni),而不是H2PO2-与Ni2+直接作用。
首先是在加热(heating )条件下,次磷酸钠在催化表面上水解释放出原子氢,或由H 2PO2-催化脱氢产生原子氢,即
然后,吸附在活性金属表面上的H原子还原Ni2+为金属Ni沉积于镀件表面.同时次磷(P)酸根被原子氢(Hydrogen)还原出磷,或发生自身氧化还原反应沉积出磷,H2的析出既可以是由H2POf水解产生,也可以是由原子态的氢结合而成。
2)氢(Hydrogen)化物理论
氢(Hydrogen)化物理论认为,次磷酸钠分解不是放出原子态氢,而是放出还原能力更强的氢化物离子(氢的负离子H一),镍(Ni)离子被氢的负离子所还原。铝排镀铜" href="/product">铝排镀铜铝排镀铜是一种高科技节能型导体材料,同时具备铜的导电性和铝的密度小的特性。在酸性镀液中,H2PO2-在催化表面上与水反应,
在碱性镀液中,则为
镍离子(ion)被氢负离子所还原,即氢负离子H一同时可与H20或H+反应放出氢气:同时有磷还原析出。
⑵特点
迄今为止,化学镀(Electroless plating)镍的发展已有50多年的历史。经过半个多世纪的研究开发,化学镀镍已进入发展成熟期,其现状可概括(generalize)为:技术(Technology)成熟、性能(xìng néng)稳定、功能多样、用途广泛(extensive)。
用化学(Chemistry)镀镍沉积的镀层,有一些不同于电沉积层的特性。铝排镀铜铝排镀铜是一种高科技节能型导体材料,同时具备铜的导电性和铝的密度小的特性。

 、僖源瘟(P)酸钠为还原剂时,由于有磷析出,发生磷与镍的共沉积,所以化学镀镍层是磷呈弥散态的镍磷合金镀层,镀层中磷的质量分数为1%~l5%,控制磷含量得到的镍磷镀层致密、无孔,耐蚀性远优于电镀镍。以硼氢化物或氨基硼烷为还原剂时,化学镀镍层是镍硼合金镀层,硼的含量为1%~7%。只有以肼作还原剂得到的镀层才是纯镍层,含镍量可达到99.5%以上。

 、谟捕雀、耐磨耗性良好。电镀镍层的硬度仅为l60~180HV,而化学镀镍层的硬度一般为400~700HV,经适当热处理后还可进一步提高到接近甚至超过铬镀层的硬度,故耐磨性良好,更难得的是化学镀镍层兼备了良好的耐蚀与耐磨性能(xìng néng)。

 、刍榷ǎń馐:稳固安定;没有变动)性(The stability of)高、镀层结合力好。在大气(dàqì)中以及在其他介质中,化学镀镍层的化学稳定性高于电镀镍层的化学稳定性。与通常的钢铁、铜等基体的结合良好,结合力不低于电镀镍层和基体的结合力。

 、苡捎诨(Chemistry)镀镍(Ni)层含磷(P)(硼)量的不同及镀后热处理工艺的不同,镀镍层的物理化学特性,如硬度、抗蚀性能、耐磨(nài mó)性能、电磁性能等具有丰富多彩的变化,是其他镀种少有的。铝排镀铜铝排镀铜是一种高科技节能型导体材料,同时具备铜的导电性和铝的密度小的特性。铜排镀锡" href="/product">铜排镀锡铜排镀锡是指铜排局部或整体镀锡,无需加温,无需电镀槽,工艺简单,易操作,操作非常方便,正、负换向开关设在前面板,上、下拨动开关,即快速实现换向所以,化学镀镍的工业应用(application)及工艺设计具有多样性和

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